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UEDA, M.; WEI, R.; REUTHER, H. Plasma-based ion implantation treatments under industrially relevant conditions. Solid State Phenomena, v. 107, p. 31-36, Oct. 2005. DOI: <10.4028/www.scientific.net/SSP.107.31>. Disponível em: <http://doi.org/10.4028/www.scientific.net/SSP.107.31>.
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... como proposto por Ueda, Wei e Reuther (2005).
... pode ser encontrada na literatura (UEDA; WEI; REUTHER, 2005).